，那你们自己看着安排，需要帮忙的话，跟我说一下。”

    现在电路板的原材料除了覆铜板在这时期太贵了。

    其他的都能在化工厂找到原材料。

    唐修远嗯了一声“暂时没有等有需要了，我们会跟你们说的。”

    “好”

    王青松答应了下来。

    这些人来了有接近一半年的时间，也是时候回去一部分了。

    而且中间又来了一些人。

    至于生产线，他现在已经完全放开了。

    只要把控好设备，别被人弄走拆开研究，那么就不担心这些人能知道什么。

    哪怕是真正的科研大佬来了也抓瞎。

    没办法，这些机器系统，那些大佬现在都看不懂。

    随后询问了一下生产情况，他这才离开去了研究所。

    现在华科半导体的经营事情，斯波克基本上都交给了副经理，他则是主持研究所的事情。

    不过每天他还是会去公司。

    老板兼研发的人才多了去了。

    只有研究所上了正轨以后，才不需要老板上手。

    斯波克正在一张巨大的图纸上写写画画。

    看到他过来也只是笑着招呼一声，又低头工作了起来。

    王青松在那里看了一会。

    斯波克这才抬头“boss，找我有事情，还是说能给我新的灵感”

    研究所里的港岛员工看到他过来，自然也是过来做翻译。

    王青松闻言笑了笑“我可没有样机试验怎么样了”

    距离他给的资料已经过去一年时间。

    设备已经制造出来了。

    或者说，半年前就已经制作出来一套光刻机设备。

    但是这台光刻机有着这个时代光刻的通病。

    那就是成品率。

    主要原因自然是因为光掩膜的使用寿命。

    现在是半导体的远古时代。

    很多后世的软硬件这个时代都没有。

    和后世的用计算机和eda软件设计不同的是，这个时代的光掩模真的是靠人工手搓的。

    初代工程师先在方格纸上用彩色铅笔绘制好集成电路版图。

    再用精细的刀片在光掩模母版上，徒手把晶体管和电路连接一点一点刻出来。

    最后用母版图形，用相机缩小50到100倍。

    才能用一张用来做光刻的光掩模。

    和这种光掩模匹配的自然是接触式光刻机。

    这种光刻机只会简单粗暴的将光掩模覆盖在硅片上。

    掩模涂层与光刻机涂层直接接触，再打光照射，完成曝光。

    但是这种光照方式的失败率和成本都很高。

    因为胶体本身及其粘附的浮尘颗粒，不仅影响效果，还会对光掩模造成损伤。

    10张晶片才能用有一张能用，还会加速光掩模的使用寿命。

    成本是相当的高。

    后来按照他给的资料，又在接触式光刻机的基础上，加了一个水平和垂直方向上可移动的平台。

    以及一个测量光掩模和晶片之间的显微镜。

    让两者在刻录的时候，靠近又不接近，解决了之前的问题。

    也就是接近式的光刻机。

    但是这种光刻机解决了之前的问题，但是精度下降。

    所以这两款产品出来以后，他直接就放弃了。

    直接用上了1974年才出来的投影技术。

    这玩意成本还挺高的，需要不少的光学器件，都需要
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